» Программы для разработки, тестирования,... оптических систем

Цитата:

Nu, realjno, sistemy na 30 nm obychno daleki ot "diffraction limited"

Смотря какие системы.
Например EUV lithography, там очень много проблем.
И волновые эффекты играют большую роль.


Добавлено:
А TracePro и LightTools это системы геометрической трассировки луча.

Цитата:

Например EUV lithography, там очень много проблем

Imenno pro nikh ya i govoryu. Naprimer na 13 nm poluchitj pyatno menjshe 50 nm ne
udaetsya . Tam imenno ochenj mnogo problem, kotorye meshayut poluchitj
normaljnoe izobragenie. Samaya prostaya otsenka: skoljko nugno opticheskikh
poverkhnostej, chtoby poluchitj khoroshee izobragenie v vidimom? Ot 4-kh ???
A teoreticheskij predel dlya interferentsionnogo zerkala na etikh dlinakh voln - 70%.
Vot i poschitajte, skoljko izlucheniya (skazatj "sveta" ne povorachivaetsya yazyk)
dojdet do ploskosti izobrageniya... A rasseyanie? Sherokhovatostj podlogki dlya zerkala
dolgna izmeryatjsya Angstremami, t.e. edinichnymi atomami!!!

Poetomu ya i skazal v svoem poste: vse zavisit ot togo, skoljko deneg vbukhano v sistemu.


Цитата:

А TracePro и LightTools это системы геометрической трассировки луча.

Tak ge kak i ZEMAX i Code V... I vse ikh pretenzii na otsenku difraktsionnykh effektov -
ne bolee chem approximatsiya (difraktsiya Fraunhofer'a = skalyarnoe pribligenie).

Полностью с вами согласен.

Хорошие системы для EUV литографии состоят из 6 - 8 асферических зеркал (асферики до 10 порядка). Точность изготовления - нанометры. При этом удаётся добиться дифракционного качества. Если есть большой интерес могу пару таких дизайнов подкинуть. Стоимость такой системы - миллионы долларов .

Цитата:

Если есть большой интерес могу пару таких дизайнов подкинуть.

подкиньте, плиз.

А есть ли где реально работающие такие системы.
Насколько я знаю (ибо сам этим, в принципе, занимаюсь)
на сегодняшний день в основном работают линзовые схемы на
193-нм и 248-нм.

Ну вот для начала пара ссылок:

http://www.research.ibm.com/journal/rd/411/singh.html
http://homepages.ipact.nl/~alexgeorg/Evolution_DUV.htm

Да, сегодня в наличии есть литографические объективы для 248 нм, 193 нм, 193 нм с иммерсией, 157 нм (система создана, но программа свернута). EUV оптика пока реализована в качестве макета, т.е. сама система работает, но имеет большие ограничения. Ожидается на рынке к 2008-2010 году.

В статьях есть ссылки на патенты. Конечно система из патента напрямую суперкачества не даст, но вытянуть можно.

Цитата:

Naprimer na 13 nm poluchitj pyatno menjshe 50 nm ne udaetsya

Цитата:

При этом удаётся добиться дифракционного качества.

А какого именно качества удается пока добиться?

alexgeorg

Цитата:

h_p://homepages.ipact.nl/~alexgeorg/Evolution_DUV.htm

Kakoj u Vas adres interesnyj. A Vy sluchajno ne v ASML rabotaete?
Ug boljno znakomye ob'ektivy v vashej statje... CZ-SMT?

paparazzo

U vas na sajte estj ssylki na knigi:
22) P. Mouroulis, J. McDonald Geometrical Optics and Optical Design (1997) скачать
30) An Illustrated Dictionary of Optoelectronics and Photonics: Important Terms and Effects (2002) скачать
33) R.Shannon The Art and Science of Optical Design (1997) скачать

Chto-to mne eto ne popadalosj. Moget zaljete v yachik na gmail (a to u menya s naroda ne
kachaetsya)? Ili ssylku dadite, otkuda ono.

Цитата:

22) P. Mouroulis, J. McDonald Geometrical Optics and Optical Design (1997)
30) An Illustrated Dictionary of Optoelectronics and Photonics: Important Terms and Effects (2002)
33) R.Shannon The Art and Science of Optical Design (1997) скачать

Залил на книголюб

Добавлено:
Привет ASML от отечественных производителей фотолитографического оборудования!!!

ging


Цитата:

A Vy sluchajno ne v ASML rabotaete?

Горячо


Цитата:

CZ-SMT?

Холодно

US Patent 5,805,344 (1998) - Nikon Corporation (JP)
US Patent 4,953,960 (1990) - Williamson (that time SVGL?)
US Patent 6,757,051 Emb. 1 (2002) - Nikon Corporation (Tokyo, JP)
US Patent 6,757,051 Emb. 5 (2002) - Nikon Corporation (Tokyo, JP)
US Patent 5,815,310 (1998) - Williamson for SVG Lithography Systems, Inc. (Wilton, CT)

По чертежу трудно происхождение определить.

paparazzo


Цитата:

А какого именно качества удается пока добиться?

Strehl Ratio > 0.99; RMS wave < 0.002
Расчетное качество идеальное, но сделать, точнее даже померить трудно + покрытия крайне нестойкие.

Ответный привет труженикам .

Да, мне не понятно почему у нас в стране решили делать линзовый объектив для литографа, да еще поручили ГОИ это делать...
Ясно же, что все равно нужно будет на зеркальные системы переходить. Опять деньги налогоплатильщиков поветру.

Цитата:

да еще поручили ГОИ это делать

не только ГОИ делает такие объективы (например Бинары)

Ну литография - понятие очень ёмкое, и может не только для печати чипов применяться. Так что хорошо даже то, что кто-то будет в этом что-то понимать. И потом сразу, с нуля, EUV объектив не сделаешь. Японцев хорошо бы с уже освоенных рынков потеснить. Ведь 193 нм машины нужны пока только лидерам (IBM, Intel, AMD, Toshiba) для процессоров или FLASH, да и то только для критичных слоёв. А микросхемы для калькуляторов можно и на старых машинах печатать.
А если не секрет, кто в ГОИ этим занимается, может кто-то из старых знакомых ?

Я к ГОИ отношения не имею, но видел рабочие чертежи их объектива, "разработал" стоит фамилия Ган. Это было около полугода назад.


Добавлено:

Цитата:

микросхемы для калькуляторов можно и на старых машинах печатать

так оно и есть.

paparazzo

Цитата:

Я к ГОИ отношения не имею, но видел рабочие чертежи их объектива,

А сколько линз там было?

andrey98

Цитата:

Опять деньги налогоплатильщиков поветру

Да, тут сложно не согласиться, но дальше экспериментального образца им не двинуться... ИМХО

К вопросу о зеркальных системах.
По имеющейся у меня информации ФИЗТЕХ уже около 5 лет пытается сделать зеркальный объектв для УФ области на внеосевых асферических элементах. Но я сомневаюсь, что асферики с требуемым качеством кто-нибудь в России сможет сделать.... Но "деньги налогоплательщиков" будут потрачены.

Р. Сейсян
Нанолитография СБИС в экстремально дальнем вакуумном ультрафиолете (Обзор)
_http://www.ioffe.rssi.ru/journals/jtf/2005/05/p1-13.pdf
Размер: 727 KБ

Цитата:

По имеющейся у меня информации ФИЗТЕХ уже около 5 лет пытается сделать зеркальный объектв для УФ области на внеосевых асферических элементах

Качество поверхности очень трудно сделать. Лучше бы вложили денежки в развитие технологий оптических. А то все работают на станках 20-ти летней давности и контроль никакой.

Кстати, возвращаясь к нашим делам, что там за Земакс лежит на книголюбе?

Цитата:

что там за Земакс лежит на книголюбе

Рабочий Zemax за апрель.
Из нововведений заметил только экспорт 3D DXF.


Цитата:

А сколько линз там было?

Линз там было 29. Хотя, по-моему можно было и согнать до 27.

andrey98

Цитата:

Качество поверхности очень трудно сделать. Лучше бы вложили денежки в развитие технологий оптических. А то все работают на станках 20-ти летней давности и контроль никакой.

Пока подобного оборудования нам никто не оплатит, а отстали в технологии уже лет на 20... догонять не имеея импортного аналога и финансирования бесполезно.

Цитата:

Рабочий Zemax за апрель.
Из нововведений заметил только экспорт 3D DXF

Что-то я его попробовал поставить - запросии номер лицензии. Есть ли она у кого?

andrey98

Такого не должно быть если проинсталирована соответствующая версия.

Я ее ставил поверх старого, может в этом причина?

Цитата:

ее ставил поверх старого, может в этом причина?

Вполне может быть...
Я всегда ставлю новую версию в новую директорию, и таких проблем небыло.

Interferogram Analysis For Optical Testing, 2nd Edition

Нет ли у зтой книжки у кого-нибудь?

Также ищется Handbook of Optical and Laser Scanning

Срочно нужен специалист по разработке линз для микро камер для рынка сотовых камфонов.

Знание процессов массового производства с применением injection molding - обязательно.

Кто заинтересован, пишите на qwer1304 собака hotmail точка com

Судя по описанию вам нужен специалист не по разработке, а по изготовлению, т.е. технолог.

Интересно, а по разработке оптики нужны кому-нибудь специалисты?

А кто нибудь работал с програмкой ФРЕНЕЛЬ? Разработка кажется ФИАНА.

andrey98

Даже не слышал о такой.